华为轮值董事长徐直军公开感谢美国半导体出口管制,称其推动了中国芯片自主化。华为同时公布Tau Scaling架构和LogicFolding技术,目标在2031年实现1.4nm等效密度,绕开EUV光刻机限制。
华为轮值董事长徐直军近日公开感谢美国对半导体的出口管制,称华盛顿的限制措施为中国芯片自给自足提供了催化剂。“如果不是美国逼迫,我们不会做到这一步——对此我们心怀感激。”徐直军在一次行业活动上表示。
这番话发表前不久,华为在上海举行的IEEE国际电路与系统研讨会上公布了雄心勃勃的半导体路线图。该公司宣布计划到2031年生产晶体管密度相当于1.4纳米工艺的芯片,且无需依赖被西方制裁封锁的极紫外光刻机。

华为没有追求传统的晶体管缩小,而是提出了Tau Scaling定律——一个优先减少芯片内部信号传输时间、而非单纯缩小晶体管尺寸的框架。配合这一原则,该公司推出了名为LogicFolding的架构,旨在缩短内部连线、降低延迟,并在无法使用先进光刻机的情况下提升晶体管密度。
华为表示,过去六年间已采用这一方法的早期版本,低调设计和量产了381款芯片。计划于2026年下半年推出的下一代麒麟手机芯片,将成为首批基于LogicFolding架构的商业产品,目标晶体管密度达到每平方毫米2.38亿个——华为称这一数字可与台积电3纳米工艺比肩。
分析人士指出,华为并未提供独立基准测试或第三方验证来支撑其说法。
这些进展在韩国引发警觉。分析师警告,中国半导体进展迅速可能威胁三星电子和SK海力士的竞争力。哈德逊研究所5月的一份报告指出,深度依赖中国市场的韩国企业正面临风险加大——中国竞争对手正快速缩小技术差距。
据韩国先驱报报道,若美国在贸易谈判中放松出口管制,可能让中国公司获得更多先进制造设备,从而打击韩国芯片产业。美国贸易代表杰米森·格里尔5月中旬表示,芯片出口管制并非近期北京双边会谈的主要议题,暗示美国不会立即放宽限制。
华为的强硬姿态折射出中国半导体战略的更广泛转变。该公司将约22%的收入投入研发。而2026年美国仍在加强限制,商务部最近又禁止向多家中国芯片制造商销售设备。
华为的Tau Scaling路线能否真正媲美传统2纳米以下制程的性能仍有待验证。但徐直军的言论凸显了一个美国政策制定者早已警告过的现实:出口管制或许正在加速它们本意要阻止的自给自足。
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