AI芯片需求狂飙，ASML加码EUV光刻机产量

ASML 是生产极紫外（EUV）光刻设备的荷兰制造商，其产品是制造先进半导体的核心装备。受AI芯片厂商需求激增、供应趋于紧张的影响，该公司计划今年将EUV光刻机产量较2025年提升36%。据《华尔街日报》报道，多家媒体引用该报消息称，ASML预计2026年将交付至少60台EUV系统，高于去年的48台，并计划在下一阶段将年产能进一步提升至至少80台。

存储巨头创纪录的订单

随着各大芯片制造商向ASML下达了空前规模的订单，产能爬坡正在加速推进。SK海力士在3月的一份监管文件中披露，将采购价值11.95万亿韩元（约797亿美元）的EUV光刻设备，交货期截至2027年12月，以加快其向第六代工艺技术的转型，用于高带宽内存及其他AI相关芯片的生产。三星随后也为其平泽P5晶圆厂下单，订购约20台EUV系统，价值逾10万亿韩元（约74亿美元），同样瞄准1c代DRAM制程。

与此同时，台积电表示，预计2026年资本支出将接近其520亿至560亿美元指引区间的上限，其中70%至80%将用于先进制程技术。该支出计划较2025年至少增长25%。

强劲的第一季度业绩与上调展望

ASML于4月14日公布了2026年第一季度业绩，进一步印证了当前旺盛的市场需求。公司当季总净销售额达88亿欧元，同比增长13%，毛利率为53%，净利润为28亿欧元。仅EUV系统一项的营收便超过41亿欧元，其中包括两台High-NA设备。

管理层将2026年全年收入指引上调至360亿至400亿欧元，高于此前的340亿至390亿欧元区间，原因是沉浸式光刻需求走强，以及非中国客户带来的EUV增量需求。以中值380亿欧元计算，新指引意味着相较2025年约16%的增长。

在AI建设浪潮中确保供应

ASML在EUV光刻领域没有任何竞争对手，其设备售价在2亿至4亿美元之间。该公司还在持续推进技术升级，已展示出将EUV光源功率从600瓦提升至1000瓦的可行路径——这有望在本十年末使每台设备的芯片产出量提高约50%。其下一代High-NA EUV光刻设备目前已完成50万片晶圆的加工，并实现了约80%的正常运行时间，这一里程碑标志着该设备已具备量产就绪条件。